余姚市天仁真空镀膜有限公司
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天仁真空镀膜-真空镀膜中的旋涂镀膜法

时间:2018-07-17

天仁真空镀膜-真空镀膜中的旋涂镀膜法


  在真空镀膜 中有一种旋涂镀膜法,它包括2个过程:低速滴胶和高速匀胶。离心加速度会使胶很快的匀开,然后多余的胶被甩离基片,整个基片上就会形成一层均匀的薄膜。
  对薄膜厚度和其它特性的影响因素主要有两个:胶体本身和最终的旋转速度。其中旋涂镀膜最重要的影响因素之一就是旋转的稳定性。哪怕是轻微的抖动,也会造成薄膜非常的不均匀。   

旋涂镀膜过程:
  滴胶:静止滴胶,顾名思义就是将少量的胶体滴到基片的中心位置或者上面就可以,可以人工滴胶,也可以使用专业的滴胶机。一般在滴胶过程中的转速比较低,比如500rpm就可以了。

  目的是为了将胶体摊开,覆盖住整个基片,也可以减少胶体的浪费,因为没有必要滴满整个基片。这种方法对本身湿润性很差胶体或者基片很有帮助,可以减少废
液产生。 匀胶:滴胶之后,通常是在旋转速度相对较高的状态下匀胶,使其达到需要的厚度。一般这时的转速在1500-6000 rpm,当然还可以根据需要作出实际的调整。

  这时高速的稳定性能够发到要求,就要看厂家的产品质量了,我们凯美特的转速可以达到8000 rpm还非常稳定。
固化:高速匀胶之后,如果有必要,膜层需要固化,这对薄膜非常有利,在使用之前,可以让膜层达性能达到稳定。如果没有固化,在使用过程中,膜层可能脱落。


信息来源(天仁真空镀膜)http://www.nbtianren.com/

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